Alkalmazás félvezető területen
A félvezetőgyártásban,wolfram célpontokfőként fotolitográfiában és vékonyréteg-leválasztási technológiában használják. A fotolitográfiai eljárás során a wolfram céltárgyak nagy sűrűsége, nagy keménysége és alacsony kémiai reakcióképessége lehetővé teszi számukra, hogy precíz maratási vezérlést biztosítsanak a plazmamarás során, csökkentsék a szükségtelen anyagveszteséget, és biztosítsák az áramköri minták finomságát és integritását. A vékonyréteg-leválasztási technológiában a wolframcélok sűrű filmeket képeznek fizikai gőzleválasztással (PVD) és kémiai gőzleválasztással (CVD). Ezek a fóliák nagy keménységgel és kopásállósággal rendelkeznek, ami javítja a félvezető eszközök mechanikai szilárdságát és tartósságát. Ugyanakkor nagy vezetőképességük és alacsony impedanciájuk javítja az áramvezetési hatékonyságot és csökkenti az energiafogyasztást.
Alkalmazás spallációs neutronforrásban
A volfrámcélpontok kulcsszerepet játszanak a spallációs neutronforrás eszközökben is. A spallációs neutronforrások nehéz atommagok nagy energiájú protonokkal történő bombázásával állítanak elő neutronokat, amelyeket az anyag mikroszerkezetének és dinamikus tulajdonságainak tanulmányozására használnak. A volfrám magas olvadáspontja, magas hővezető képessége és alacsony porlasztási sebessége miatt kedvelt anyaggá vált a magfúziós eszközökben és a spallációs neutronforrásokban.