A nagy tisztaságú tantalumport (nagyobb vagy 99,95%-nál nagyobb) hideg izosztatikus préseléssel képezik, majd magas hőmérsékleten (1800-2000 fok) szinterelve egy célt képeznek.
Előnyök: olcsó, nagy méretű célokhoz alkalmas.
Hátrányok: alacsony sűrűségű (kb. 95%), ezt követő feldolgozást igényel.
Tantalum céltermék részletei kép kijelző
Tantalum célpont
Tantalum célpont